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Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology

收录 1,947 篇论文，累计被引 19,224 次，出版年份 2002–2026。

收录篇数
1,947
总被引
19,224
篇均被引
9.9
单篇最高被引
162
年份区间
2002–2026
近五年篇数
339

逐年收录分布

近 25 个有收录的年份（最多 40 个）。悬停查看当年篇数。

0641272002 年：38 篇20022003 年：46 篇2004 年：73 篇2005 年：80 篇2006 年：59 篇20062007 年：64 篇2008 年：75 篇2009 年：127 篇2010 年：97 篇20102011 年：90 篇2012 年：112 篇2013 年：124 篇2014 年：127 篇20142015 年：122 篇2016 年：127 篇2017 年：81 篇2018 年：78 篇20182019 年：60 篇2020 年：28 篇2021 年：65 篇2022 年：74 篇20222023 年：63 篇2024 年：71 篇2025 年：62 篇2026 年：4 篇2026
纵轴为当年收录篇数；峰值 127 篇（2009 年）。
查看数据表
年份篇数占比
202640.2%
2025623.2%
2024713.6%
2023633.2%
2022743.8%
2021653.3%
2020281.4%
2019603.1%
2018784.0%
2017814.2%
20161276.5%
20151226.3%
20141276.5%
20131246.4%
20121125.8%
2011904.6%
2010975.0%
20091276.5%
2008753.9%
2007643.3%
2006593.0%
2005804.1%
2004733.7%
2003462.4%
2002382.0%

代表作

  1. 0
    Hybrid energy harvester based on piezoelectric and electromagnetic mechanisms ↗

    2010 年 · 被引 162 次

  2. 1
    Tunable infrared detector with integrated micromachined Fabry-Perot filter ↗

    2008 年 · 被引 133 次

  3. 2
    Fast pixel-based mask optimization for inverse lithography ↗

    2006 年 · 被引 120 次

  4. 3
    Stochastic effects in EUV lithography: random, local CD variability, and printing failures ↗

    2017 年 · 被引 106 次

  5. 4
    High-resolution maskless lithography ↗

    2003 年 · 被引 104 次

  6. 5
    Imbalance aware lithography hotspot detection: a deep learning approach ↗

    2017 年 · 被引 102 次

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